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  • 发布时间:2025-01-20

    在微纳制造领域,光刻技术是制造高精度器件的核心工艺。无掩模纳米光刻机以其高灵活性、高精度和高效性,成为现代微纳制造的“自由之笔”。本文将探讨无掩模纳米光刻机的工作原理、技术特点及其在科技发展中的重要意义。一、无掩模纳米光刻机的工作原理无掩模纳米光刻机是一种无需使用物理掩模即可实现高精度图案化的光刻设备。其核心原理是通过计算机控制的激光束或电子束直接在光刻胶表面进行曝光,形成所需的微纳结构。具体工作流程如下:图案设计通过计算机软件设计所需的微纳图案,并将其转换为光刻机可识别的数...

  • 发布时间:2024-12-23

    激光直写技术,作为现代微细加工领域的一颗璀璨明珠,正在逐步改变我们的科技与生活。这一技术利用强度可变的激光束,对基片表面的抗蚀材料实施精确的变剂量曝光,从而在显影后形成所需的浮雕轮廓。它不仅在衍射光学元件(DOE)的制作上大放异彩,更在微电子制造、半导体制造、显示器制造以及生物医学等多个领域展现出强大的应用潜力。激光直写技术的工作原理相当精妙。它依赖于计算机控制的高精度激光束扫描系统,该系统能够直接在光刻胶上曝光并写出设计的任意图形。这一过程中,计算机产生的微光学元件或VLS...

  • 发布时间:2024-10-24

    激光直写设备是一种在材料科学领域广泛应用的工艺试验仪器,其主要功能和特点可以归纳如下:一、定义与原理激光直写设备利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光,显影后在抗蚀层表面形成所需的浮雕轮廓。这一技术结合了计算机控制与微细加工技术,为衍射光学元件(DOE)的设计和制作提供了极大的灵活性,制作精度可以达到亚微米量级。二、应用领域1.微电子制造:激光直写设备在微电子制造领域具有重要地位,可用于制造微小电子零件、硅片和集成电路等微型电子元件。通过高精度的激光束扫描,直...

  • 发布时间:2024-10-24

    近期,为纪念《中国激光》建刊50周年,该刊特设立了激光加工专题。华维纳创始人应邀在该刊物上发表了题为“具有超衍射和多受体的新型纳秒激光直写研究进展”的特邀文章,介绍了新型激光直写在超分辨加工和多受体加工方面取得的最新研究进展,以及华维纳在新型激光直写设备的产业化情况,受到了广大激光加工领域从业人员的广泛关注,详见文章链接https://www.chem17.com/st567305/info_673560.html。华维纳的新型激光直写设备已为广大科研人员的前沿研究和各种微纳...

  • 发布时间:2024-10-22

    在科技日新月异的今天,纳米光电子设备以其的微观世界魅力,正悄然改变着信息处理、能源转换乃至生物医药等多个领域的面貌。这些基于纳米技术构建的光电子器件,不仅体积小巧、更以其高效能、低能耗的特点,着未来技术的发展方向。本文将深入探讨纳米光电子设备的使用方法与关键注意事项,助您安全、高效地驾驭这一前沿科技的瑰宝。一、纳米光电子设备概述纳米光电子设备,是利用纳米材料或结构实现光与电之间转换、传输与调控的一类设备。它们包括但不限于量子点太阳能电池、纳米激光器、光子晶体管等,广泛应用于光...

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